İNCE FİLM KAPLAMA SİSTEMİ

En yaygın ince film üretme yollarından biri olan fiziksel buhar biriktirme (PVD) tekniğiyle çalışmaktadır. Cihazın termal buharlaştırma, RF ve DC kaplama olmak üzere 3 farklı modu bulunmaktadır. Bu sistemle çeşitli malzemelerden çok katmanlı ince film üretilebilmektedir.

Araştırmacıların taleplerine göre nanoboyutta Si, Al, Ti, SiO, WO, BaF2, MgF2, TiO2, Si3N4, SiO2, TiN gibi metalik, oksit, karbür veya nitrür yapılar elde edilmektedir. Kaplama süreci yüksek vakum altında Ar, N2, O2 atmosferlerinde gerçekleştirilmektedir.